1. 機(jī)械拋光方式
所謂的機(jī)械拋光就是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，大多采用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特-殊0件如回轉(zhuǎn)體表面，可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔-助工具，表面質(zhì)量 要求高的可采用精研拋的方式。精研拋是采用特-制的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速運(yùn)動(dòng)。利用該技數(shù)可以達(dá)到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度，是各拋光方法中高及的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

2. 化學(xué)拋光方式
化學(xué)拋光工藝是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種拋光方法主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，效率高�；瘜W(xué)拋光的核-心問(wèn)題是拋光液的配制�；瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù) 10 μ m 。